带有可转动的磁控管的大面积组件的镀膜机
日期:2013-06-04 14:48
在镀膜过程中转动且具有曲形表面,该待溅射的材料特别位于圆柱的侧表面上,其特征在于:至少3个、优选更多的带有多个可转动的、弯曲的靶(4)的阴极纽件(2)被并排地设置在用于连贯的镀膜区域的单一的镀膜室中。
2.如权利要求1所述的镀膜机,其特征在于:带有多个可转动的、
10弯曲的靶(4)的多个阴极组件被支撑在一端面区域中的一端。
3.如权利要求1或2所述的镀膜机,其特征在于:该带有多个可转动的、弯曲的靶的多个阴极组件(2)为磁控管。
4.如权利要求3所述的镀膜机,其特征在于:该磁控管阴极具有多个磁体(3)或磁体组件;该磁体(3)或磁
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