日期:2013-06-04 14:48
在很长的一段时间被人们所了解且被广泛使用以达到各n种镀膜目的，该镀膜机是通过阴极溅射的方式在基片上镀膜。镀膜机的设计和制造工艺根据镀膜必须满足的特定要求而发生很大的变化。例如有很多种不同的阴极，如平板阴极，磁控管阴极，可旋转磁控管等等。由于带有平面阴极，所以要被溅射的镀膜材料被构造成扁平形的I巴，且所谓的可旋转的阴极的把表面被弯曲，具体被构造成一种圆柱形管体的形式。在镀膜过程中，由于圆柱形管体的连续转动，靶材料被均勾地溅射，从而避免出现可影响镀膜质量的局部集中溅射和由此产生的纹槽。
通过使用所述的