日期:2013-06-04 14:50
，能够同时保证多层膜还具有很高的可见光透过率。3)在镀膜工艺中将脉冲电源串联直流电源使用，能够消除靶表面电荷堆积，防止靶面打火的现象，从而提高镀膜过程的稳定性和效率，达到改善膜层性能的效果。4)在镀ITO层时采用通水蒸气的特殊工艺，能够抑制ITO膜生长过程中的结晶，使得薄膜表面平整度更好。5)对基板进行温度控制使镀膜在低温下进行，能进一步抑制ITO膜的晶粒长大或者柱状生长，使ITO膜表面形成非晶结构，降低表面粗糙度。6)采用本发明中提供的各种优选比例和工艺参数，能够获得更优的实现效果。
下面结合附图和具体实施方式对