ITO镀膜板及其制备方法
日期:2013-06-04 14:50
电源由脉冲电源串联直流电源构成,脉冲频率为20~100kHz。
6、根据权利要求4所述的ITO镀膜板的制备方法,其特征在于:在沉积IT0膜时,采用氧化铟锡陶瓷作为靶,其中ln203与Sn02的重量比为90:10;采用氩氧混合气作为工作气体,其中氧气体积占2~5%。
7、根据权利要求4所述的IT0镀膜板的制备方法,其特征在于:在沉积合金膜时,采用银金合金作为靶,采用氩气作为工作气体,沉积厚度控制在10~20nm。
8、根据权利要求4~7任意一项所述的ITO镀膜板的制备方法,其特征在于:在沉积IT0膜时,通入工作气体前还在本底真空中通入水蒸汽。
9、根据
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