日期:2013-06-04 14:50
据权利要求8所述的ITO镀膜板的制备方法，其特征在于：所述水蒸汽的通入采用这样的方法，将水盛在密闭钢瓶中，然后将其蒸汽通过布气管道引入真空室，并通过针阀调节其流量。
10、根据权利要求4～7任意一项所述的ITO镀膜板的制备方法，其特征在于：所述沉积过程均在低温下进行，基板温度不超过150C。
ITO镀膜板及其制备方法【技术领域】
本发明涉及真空镀膜技术，具体涉及一种ITO镀膜板及其制备方法。
【背景技术】
ITO(铟锡氧化物)膜具有优良的导电性和可见光透射率，是一种重要的透明导电膜，在光电器件中得到了广泛应用。制备ITO膜有