日期:2013-06-04 14:50
多种方法。目前一般采用的是直流磁控R射法，另外也可以采用射频溅射法，不过后者对设备要求严格，成本较高。
ITO膜所具有的性能使它在平板显示器件中得到了广泛应用，得到低方块电阻和高透光率的ITO镀膜一直为业界所追求。目前制备低方阻ITO膜一般采用提高基板温度、增加薄膜厚度的方法，但是高温下沉积的厚的ITO薄膜晶粒会长大或者形成柱状结构，使表面变得粗糙，不能满足有机电致发光器件(OLED)及其它平板显示对ITO基板表面平整度的要求。
通常，为了获得较平整的低方阻ITO膜，会采用机械抛光、酸碱化学处理、等离子体处理等方法进行