日期:2013-06-17 14:53
),用于支撑抛光衬垫（20),并具有多个形成用于将电镀溶液施加到所述衬塾上的通道的孔（210)；所述抛光衬垫（20)，具有顶表面，并具有多个与所述工作台中的孔(210)相应的穿通孔（220)；多个电镀阳极（201、202、203)，设置在所述通道中并与所述电镀溶液接勉；载体（12)，用于固定所述衬底与所述衬垫（20)的顶表面基本上平行，并用于将压在所述衬垫上的可变的机械力施加到所述衬底，所述载体相对于所述工作台旋转并包括电镀阴极；以及浆料施加器，用于在CMP工艺期间在所述衬垫上施加抛光浆料，其中所述载体在电镀工艺期间施加第一大小的力，而