日期:2018-01-13 14:41
蒸发镀是真空镀中最早应用于工业生产的一种方法。工艺成熟，设备较完善，低熔点金属蒸发效率高，可用于制备介质膜电阻、电容等，也可以在塑料薄膜和纸张上连续蒸发镀铝膜。镀膜层的结合力差，曾一度发展缓慢。由于电真空技术的发展和光固化涂料的诞生，使蒸发镀再度复兴，并广泛应用。
与电镀相比，真空镀膜的孔隙率较低，耐蚀比电镀层高两倍。如果镀层厚度控制适当，沉积层是平滑的，结合力是良好的，反射能力较高。厚度低于 时，镀层多为半透明膜;高于此厚度时，膜层光亮。真空蒸镀的沉积速度决定于沉积金属的性质，例如，锌和镉沉积10