日期:2018-01-13 14:41
min获得镀层厚度为0.01mm，而铜、铝、铂达到同样厚度需要1h。一般来说，蒸镀的沉积速度较高。
真空蒸镀可以镀覆金属材料或非金属材料，镀层材料只能选择熔点低、蒸气压较高的材料，例如： Zn、Cd、Ag、Au、Ni、Al和Cr等。这种方法镀覆低熔点金属是很满意的，若要镀覆某些高熔点的化合物，如 和 则蒸发源要利用电子束或等离子体。
真空蒸镀目前主要用来制作各种薄膜电子元件，所沉积的各种光学膜用作陶瓷、塑料、人造宝石制成的工艺美术品的装饰膜。这种方法的局限性较大，镀层的覆盖能力比较差，机械强度和结合力也比电镀层差，因此通常