日期:2018-01-13 16:01
2.影响膜层厚度均匀性的因素
若磁控源在整个靶面上的溅射不均匀，会导致膜层厚度不均匀。因此，在设计磁控源时，合理安排磁体结构，使边线或两端的磁场强度大于中间的磁场强度，便可改善膜厚的分布。
镀件相对于磁控源有各种不同的运动方式，应根据磁控源的形状而定。行星机构运动方式的成膜性均匀，台阶覆盖性能好，镀件装载量大，它便是经常采用的运动方式。
选择磁控源和镀件间的相对位置，让镀件运动，使其各表面受溅射的几率相等。
3.影响膜层反射率的因素
一般溅射速率越大，得到的膜层反射率越高，但不同金属膜层的反射率与