日期:2018-01-14 15:16
1.阴极溅射设备
阴极溅射设备的特点是首先将溅射室抽至10 -4~10-3Pa的真空度，以防溅射原子被污染，再通入惰性气体(如氩气)至0.1~1Pa的真空度，然后在阴、阳极间施加最高达5kV的高电压(具体数值由阴极材料而定)。使惰性气体产生辉光放电而部分电离，在阴极负高压的吸引下，惰性气体离子被加速并轰击阴极材料(即靶材)，使靶材表面的某些原子被溅射出来，以高速沉积到阳极(即镀件)表面而形成镀层。这是经典的溅射设备，也是二极溅射设备，它不足之处是镀件温升高，沉积速度慢。
为提高沉积速度，可在其中增设一个射出热电子的电极，使靶电