日期:2018-01-14 15:16
流密度增大，以此达到提高镀速的目的，这便是三极溅射设备。
为了使第三电极热电子放出速度加快，并使放电稳定，再装一稳定电极为第四电极，即成为四极溅射设备。
2.反应溅射设备
这种设备是利用溅射膜对杂质气体敏感的特性，在情性气体中混入活性气体或仅用活性气体进行溅射，使可以得到靶材与活性气体起反应生成的化合物膜层。
3.磁控溅射设备
是在阴极溅射设备中加一个与靶材表面平行的磁场，一方面使溅射出来的电子偏转，不去轰击镀件而使镀件温升大为降低;另一方面，电子在靶材表面作螺旋运动，不断撞击惰性气体分子并使之电离，