日期:2018-01-14 15:27
离子镀具有下述主要特点。
1.附着力高
由于离子镀的过程中已电离的惰性气体不断地对镀件进行轰击，也就是指辉光放电所产生的大量高能粒子对基表面吸附的气体和污物进行溅射清洗，而且在整个镀膜过程中随时进行，使离子镀膜层具有良好的附着力，另一方面，在镀膜初期，由于溅射与沉积两种现象共存，在膜基界面形成组分过滤层，也能有效地改善膜层的附着性能。
2.绕射性能好
在离子镀中，由于工件为阴极且带负高压，离子向工件的正反表面及其孔、槽方向运动，凡是电力线分布之处，膜材离子均能到达，覆盖工件的所有表面。
另外，由于膜