气相镀(CVD)装置
日期:2018-01-14 16:18
,需加减压装置片子垂直放置。衬底片能面对气流方向以很小间距垂直地放置,仍能使气体和衬底片均匀地接触,从而提高了生产能力,经济实效好,便于大量生产。采用电阻加热炉直接加热衬底,容易控制气相分解,温度均匀性好,明显地改善了镀层厚度和组分的均匀性。
3.等离子体CVD法
等离子体增强化学气相镀是一种射频辉光放电的物理过程和化学反应相结合的技术,气体由于受紫外线的辐射,有轻微的电离,存在杂散电子,当反应气体进入反应室,在射频电场的加速作用下,电子获得能量,当它和气体中的原子或分子发生非弹性碰撞时,有可能使之电
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