气相镀（CVD）装置
日期:2018-01-14 16:18
离产生二次电子，它们再进一步和气体中的原子或分子碰撞电离，将产生大量电子和正离子，通过电子附着过程还会出现负离子。总之，通过气体放电，反应室内除了中性粒子外，还存在着大量的正、负离子和电子，而且各处正、负电荷总数相等，即反应室放电区内的气体处于等离子体状态。
等离子体CVD的特点是能够在较低的温度(小于350℃)下生成气相镀层，对镀层易于进行等离子体刻蚀加工;其镀层的针孔密度小，台阶覆盖性能好。

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