日期:2018-12-18 09:43
属光泽和光泽度更突出，但此时镀液的分散性能会有下降。因此，主盐浓度不宜过高或过低。本工艺提供的浓度范围较宽，当母液与水体积之比在1~2范围内变化时均可以获得满意的镀层。
综上可知，合适的ZHL无氰滚镀银的推荐工艺条件为：样品占槽比1/4，滚筒转速10~14r/min，电流密度0.8~1.2 A/dm2，温度35~40℃，母液与去离子水的体积比1:1。推荐的工艺条件为：母液与去离子水的体积比1:1，温度35℃，样品占槽比1/4，滚筒转速12r/min，电流密度0.8A/dm2，下文选择该工艺条件下所得试样进行表征。
3.6镀层性能
从图1可以看到，样品镀层均匀、