日期:2019-03-21 10:51
化学镀镍在电子、机械、航空航天、汽车等领域中被广泛应用。传统高温化学镀镍工艺在85~95C下施镀，虽然沉积速率高，但存在镀液挥发和自分解较快，工作环境恶劣，软质基材(如塑料)在施镀过程中易发生变形等不足，大大限制了化学镀应用领域的拓展。
于是中温化学镀工艺成为研究热点和难点之一。
稳定剂具有抑制镀液分解而稳定镀液的作用，能够在一定程度上保证施镀过程的顺利进行。
目前常用的化学镀镍稳定剂主要有以下4类：
(1)第VIA族元素S、Se、Te的化合物，其中以硫脲为典型代表;
(2)含氧化合物，如AsO2、3IO-、2SO4等，其中以KIO3