日期:2019-05-07 10:16
无漏镀等)要求较高。
针对钕铁硼的特殊性，寻找更加稳定的络合剂，开发新型无氰碱性镀铜工艺，是解决或改善问题的关键。
新型无氰碱铜工艺采用与Cu2+络合能力强的络合剂，与钕铁硼基体不产生置换反应，可以接受为1～2m的底镍层，而始终保持结合力良好。
甚至可以采用冲击电流方法，直接在钕铁硼磁体表面镀铜，镀层结合力良好。
同时新型无氰碱性镀铜工艺还具有如下优越性。
1)镀液中(Cu2+)为7～8g/L，溶液波美度22左右，黏度低，则带出损失少，溶液稳定性好，流程清洗简单化，适合自动化生产线连续生产使用。
2)无需添加光亮剂，镀层