日期:2019-12-20 08:52
有镀层与无镀层交界的走位线。由于槽片背面电流路线苛刻，背面一定程度上反馈了电解液的分散性和深镀能力。液位线与走位线形成无镀层区面积越小，则深镀能力越好，反之越差。
4光泽剂光泽剂是光亮镀铜的关键因素，加速铜沉积速率，减少极化电阻，提高镀层延展性与导电性。光泽剂常为含硫的小分子化合物，它可以降低铜离子活化能，大都具有相异分子、低分子量、高极性等特性，解离后形成不溶于水的CuS微粒，CuS微粒易被铜表面吸附，为镀层沉积不断地提供新核，控制了晶核生成速度使镀层结晶细致并排列紧密。
3实验内容
使用267ml赫尔槽进