实验分析:用赫尔槽实验分析PCB电镀铜电解液光泽剂
日期:2019-12-20 08:52
浓度提升过程中,液位线与走位线形成无镀层区面积越来越大;③整流器电压随CuSO45H2O浓度提升过程中逐渐减小;(2)第二组实验,不添加光泽剂,CuSO45H2O含量保持80g/L不变,过程中分步H2SO4浓度提升(从50g/L开始,每次提升50g/L)。实验表明,在无光泽剂下,CuSO45H2O含量不变,过程中分步H2SO4浓度提升,有以下表现:①槽片正面在H2SO4浓度从50g/L被提升到100g/L以上后近端高电流区烧焦接近消失,低电流区边缘阶梯状漏镀消失;②当H2SO4浓度上升到250g/L时近端高电流区烧焦隐现;③槽片背面在CuSO45H2O浓度提升过程中,液位线与走位线形成无镀层
7/12 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
09/30 03:36