日期:2006-08-15 00:00
。等离子辅助化学气相沉积(PCVD)利用等离子体来促进化学反应，可使沉积温度降低到200～500℃。Sol-Gel法由于其自身的优点也越来越受到人们的重视。MT-CVD(中温化学气相沉积)则在一定程度上克服了一般HD-CVD(高温化学气相沉积)的缺点，其沉积温度低(700～900℃)，沉积速度快，涂层厚，工艺环镀性好，对于形体复杂的工件涂层均匀，而且涂层附着力高，涂层内部残余应力小，是一种优于HT-CVD的涂层工艺方法。涂层所用的基体范围也在扩大，包括高速钢、硬质合金和陶瓷都可以进行涂层。近几年来陶瓷涂层硬质合金刀具发展迅速，特别是Al2O3陶瓷由