纳米黑镍薄膜腐蚀行为的研究
日期:2012-04-14 10:50
陈映川1, 宋利晓2,3, 陈 宇2, 张 昭2, 杨仲年4, 张鉴清2
(1.上海电机学院,上海200240;2.浙江大学化学系,浙江杭州310027;3.嘉兴市天器新材料科技有限公司,浙江桐乡314515;4.滨州学院化学与化工系,山东滨州256603)
摘要:采用直流电沉积技术在仅含有单一镍盐的改性Watts镀槽中获得了纳米晶黑镍薄膜,同时采用电化学阻抗谱(EIS)技术对其腐蚀电化学行为进行了详细的研究。结果表明:纳米晶黑镍薄膜的表面平整、致密、光亮,平均晶粒直径为51.4 nm,与黄铜基体间具有很好的结合力。在质量分数为3.5 %的中性NaCl溶液中,纳米晶黑
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