铜一钨复合镀层电沉积工艺及其性能:结果与讨论(二)
日期:2012-04-14 16:14
2.复合镀层的性能

2.1 复合镀层的显微硬度

触头要求有合适的硬度:较小的硬度在一定的压力下可增大接触面积,减少接触电阻,降低静态接触时的发热和静熔焊倾向,但耐机械摩擦能力差;较高的硬度可降低熔焊面积,提高机械摩擦能力和耐电弧侵蚀能力,但接触面积减小,接触电阻增大。在最佳工艺条件下制备了铜一钨复合镀层,对其中5个试样进行显微硬度测试,结果列于表1。由表1可知,铜一钨复合镀层明显提高了基体的显微硬度,且作为电接触材料,其显微硬度适中,为98.5~112.O HV。

表1钢一钨复合镀层的显微硬度
Table l Microhardn
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