日期:2012-04-18 09:32
通过单因素试验得到适宜的镀液配方和工艺条件为:NiSO4・6H2O:25 g/L、NaH2PO2・H2O:30 g/L、C6H5Na3O7・2H2O:30g/L、Na4 P2 O7・10H2 O:10 g/L、C6 H15 O3 N:10 mL/L、NH4 Cl:30g/L、稳定剂(硫脲):4 mg/L、pH=9．0、T=40℃，机械搅拌。与一络合体系和二络合体系相比，三络合体系镀速快，镀液稳定，镀层性能更好，具有一定的应用价值。
参考文献
［1］王淑敏，王作辉．电化学的应用和发展［J］．广州化工，2010，38(8):64－69．
［2］熊文纲，卢忠铭．化学镀Ni－P与Ni－Mo－P合金镀层的耐蚀性能［J］．广州化工，2005，33(3):42－43．