日期:2012-04-19 10:22
摘要：以硫酸_甲醇酸性体系作为电解液，对钨箔进行电解抛光研究。抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表明，该体系完全适用于金属钨的电化学抛光。对钨的阳极溶解行为进行了分析，讨论了溶液组成、槽电压、温度和搅拌速率对电抛光后钨表面粗糙度的影响。初步确定了金属钨电解抛光的工艺参数为：硫酸与甲醇的体积比l：7，槽电压l5～22V，温度l5～25 ℃，搅拌速率10m／s。
关键词：钨；电解抛光；表面粗糙度；反射率
中图分类号：TG580．692．2 文献标志码：A
文章编号：1004―227X(2009)03―0027―04
Feasibility of tungste