日期:2012-04-19 10:22
度：
V=ΔWxl04/ (ρqS．t)
式中V――Ni-P合金镀层的沉积速度，μm/h
△w――施镀前后试样的增重量，g
ρ――Ni-P镀层的密度，取7.80 g/cm3
s――试样表面积，cm2
t――沉积时间，h
采用TC328A电光分析天平称量试样施镀前后的质量(精确到0.1 mg)。
采用2273电化学系统对镀层的耐蚀性能进行测试。试验采用三电极体系，工作电极为附有镀层的Q235钢试样，辅助电极为铂片，参比电极为饱和甘汞
电极，所有电位均相对于饱和甘汞电极( SCE)。交流阻抗测试在自腐蚀电位下进行，扰动电位幅值为10mV，采用ZSimp Win 3.21软件对测试数据进行数值拟合