氯化铈对Ni-p化学镀沉积速度、镀层形貌及耐蚀性的影响
日期:2012-04-19 10:22
现,当镀液中加入CeCl,以后,镀层在450处出现的“类馒头峰”更加平缓,表明镀层中非晶成分增多,这与文献[9]的研究结果相似。

图3 CeCl3对Ni-P镀层XRD曲线的影响
2.3 CeCI3对镀层耐蚀性的影响
2种镀层在3.5% NaCl溶液中于自腐蚀电位下的交流阻抗谱见图4。

图4 CeCl3对Ni-P镀层Nyquist曲线的影响
由图4可以看出,2种镀层在腐蚀介质中都只有1个容抗弧,表明2者的腐蚀机理没有差别,不同的是,加入稀土后的Ni-P镀层的容抗弧直径更大一些。
采用图5的等效电路图对2曲线进行数值拟合,其中尺。表示溶液电阻,C为双电层电容,Rct代表电荷转移
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