日期:2012-04-20 09:59
3 结论
当在化学镀Ni-P基础镀液中加入1．O g/L的 CuS04后，镀层的沉积速率得到提高；镀层表面的胞状物更加细小，表面气孔、漏镀等缺陷数量明显减少，镀层的致密性和光亮度得到提高；镀层的显微硬度变化不大，耐蚀性能得到改善。
参考文献：
[1]姜晓霞，沈伟，化学镀理论与实践[Ml.北京：国防工业出版社，2000:181-194．
[2] Veera B G,Palaniappa M, Jayalakshmi M, et al. ElectroleSs Ni-P coated on graphite as catalyst for the electro-oxidation of dextrose in alkali solution [J]. Journal of Solid Skte Electrochemistry, 200