日期:2012-04-20 09:59
试验的Tafel斜率(42mV/dec)和二价Ni离子的传递系数(1・5)表明过程的限速步骤是阳离子向阴极扩散的过程。孙淑萍等人在AlCl3-NaC-KCl熔盐体系中得到了Al-Ni合金镀层。在熔盐组成为AlCl360~62%(mol),NaC:lKCl为1:1(mol),电镀温度150℃,阴极电流密度是20~80mA/cm2的条件下获得了致密均匀的合金镀层。沉积电压范围是1・5~3V,镀层厚度通常为15~20μm。试验表明当镀层中Ni含量较低时镀层表面呈现菜花状,随着Ni含量的增加花状逐渐消失,并出现普通合金镀层所特有的单个或长串的瘤节状凸起物。总体来说合金镀层中含Ni量不高,可能是因为NiCl2在AlCl3-