日期:2012-04-20 09:59
的方法加以解决。
2 防氚渗透涂层的主要制备技术
2.1 物理气相沉积(PVD)
PVD法是固体原料-气相-成膜的过程,即是通过各种物理方法使固相物质蒸发进而在基体表面沉积成膜的制备方法。最常用的物理气相沉积技术是真空蒸镀。真空蒸镀即真空蒸发镀膜,基板不加负偏压,真空度高,但蒸气原子能量低,薄膜与基材结合力很差,容易剥落。由于此法设备简单易行,因此适用范围较广,但要想得到致密镀层必须提高基体温度。用真空蒸镀法制备防氚渗透涂层的应用较少,在防氚渗透涂层的研究早期使用,后因此法制备的涂层在实际应用中不能长期使用,容易剥落,从而达