日期:2012-04-20 09:59
达不到指标要求,逐步被淘汰。
2.2 溅射镀膜
溅射镀膜法是利用溅射现象而成膜的方法。溅射镀膜能保持靶表面成分不变地被溅射出来,由于溅射出的离子运动能量高,能使溅射离子与基体中的原子较好的结合在一起,因此镀层与基体结合力强,可得到质量较高并且非常致密的涂层。沉积速率比较低,均镀能力也不足,是此法的明显缺点,目前对于溅射镀膜法的研究也着重解决这一问题。
姚振宇等用分步偏压辅助射频溅射镀膜法在316L不锈钢表面制备碳化硅薄膜,并对此类涂层进行进一步的研究改造,具体方法是:通过引入Ti+TiN中间过渡层,利用Ti原子化学活性较强