日期:2012-04-20 09:59
,能够充分与不锈钢扩散呈冶金结合,不仅有效地解决了镀层与基体间的热膨胀系数匹配差的问题,减小了制备过程中产生的热应力,且Ti与TiN形成TiN过渡区,明显提高了膜基附着力。通过测量在500℃时此镀层的防氚渗透率,与表面镀钯膜的316L不锈钢相比,防氚渗透阻挡因子(PRF)达到104以上。
2.3 离子束辅助沉积技术(IBAD)
IBAD是PVD法改进后的一种方法,是指在物理气相沉积镀膜的同时,采用低能(数eV至数千eV)离子束进行轰击,以形成单质或者化合物薄膜的技术。IBAD可以在室温或近室温下制备具有良好性能的镀层,因为此法能使界面处沉积原子与基体原子结