日期:2012-04-20 09:59
的现象。研究表明:电流密度对镀层的表面影响比较大,当电流密度过低或过高时很难获得致密性好的纳米晶镀镍层。在电镀层形成初期,优先生成的晶核不仅为后续镍离子提供了核心,它还会造成阴极表面微观上的不平度,在尖端荷电效应作用的影响下,致使突起处镀层的沉积速率明显高于平坦处的沉积速率。因此,在相对较强的电场作用下,优先成核处的镀层生长速率进一步加快。而在新形成的阴极表面同样会由于空间上沉积速率的差异,发生类似的正反馈过程。最终,每个结晶核心在空间中长成胞状和树状多晶单元。从沉积层表面看,就是多个多晶单元的突起。当两个