日期:2014-09-10 09:48
陈幼云、刘仁志。
前排左起：叶昌松、徐为芳、高士琼、沈伟、张立茗、陈永言、胡铁骑、曾良宇、张家振、杨江成、黄清安、欧阳智章、汪明皋。
武汉电镀技术研究会因为吸引了当时武汉电镀技术、学术界活跃人士参加，举办了多次全国性技术交流、展览和培训，在全国电镀界有较大影响，以至1984年中国电镀协会成立时的第一届年会在武汉召开，电镀研究会承办了会务工作。这张照片上的人物基本上都是为我国电镀技术做出了不同贡献者，其中不乏全国知名的风云人物。
开会前会场上自由交流时间。四十年过去，弹指一挥间。当年的小伙和少壮派，