日期:2012-04-20 09:59
Ni2+去除率先是有不同程度的增大，而后Cr3+、Cu2+、Ni2+去除率则均出现一定程度的下降，但也随着pH的持续增大而有所上升;这是因为，当进水pH4.5时，膜表面带有正电荷，对Cr3+、Cu2+、Ni2+为排斥作用，而当进水pH4.5后，膜表面开始带有负电荷，对Cr3+、Cu2+、Ni2+的吸引作用使得膜对它们的去除率降低，但pH的进一步增大又使得Cr3+、Cu2+、Ni2+生成各自氢氧化物，从而促使膜对它们的去除。
在正常运行的过程中，由于系统进水pH在6～8，膜系统对重金属离子的去除率可维持在较高水平，因而不需调节进水pH。
2.3回流比对膜去除污染物的影响
浓