日期:2016-04-01 11:15
子层沉积和相对较厚的薄膜沉积。
牛津仪器OIPT全球运营总监的Dr.David Haynes带来《采用ALD与ALE进行纳米制造》的精彩报告。原子层沉积(ALD)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处，但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。ALE是以单原子层为单位进行的外延生长，可以教精确的控制外延层厚度和异质结界面，是制作超晶格、量子阱等低维结构的化合物薄膜材料较好的生长方法。
原子层沉积(ALD)具有高