RC-CU200 无氰碱性镀铜工艺
镀液的带出损耗和电极过程的损失,可根据化学分析进行补充,每缺少铜lg/L,可补充200A33mL/L。
2.200B补充液中含复杂药剂,它的添加可作为带出的补充和因电化学作用而消耗的量,过少将会引起结合力下降,轻微过量将不会引起什么不良影响。200B补充液中含有较强酸性物质,所以添加小心,且加入后需要用50%的氢氧化钾调整pH值。200B的消耗量约为100~150mL/kAh,也可根据霍尔槽试验添加。
3.镀液的pH值应控制在9.5~10,不可低于9,以免影响镀层结合力,升高pH值用氢氧化钾,降低pH值用200B。
4.阳极材料采用轧制高纯铜板为好,为防止阳极泥
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09/28 18:19