硅片清洗剂
离子有很强的螯合作用，防止了碱、重金属离子对硅片沾污而影响器件的电学特性，便于制备高纯的半导体衬底镜面。清洗剂浓缩度高，可稀释20-50倍，而且该产品粘度低、高效、环保无磷、无毒、无腐蚀
三、主要用途：用于半导体硅器件、薄膜技术中的玻璃和金属表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。
四、 技术指标：






序号


项 目


指 标




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09/29 08:17