三价铬电镀工艺研究的现状及方向
日期:2012-04-06 17:23
℃,Jc为7~12A/dm2.镀液的覆盖能力好,镀层硬度高,外观呈不锈钢色,设备类同六价铬,易于工艺转化,该工艺在国外已批量应用。1.1.2 DMF该工艺沉积速率快,镀层呈光亮色,耐蚀性好,但镀液导电性差,需较高槽压,不利于节能。工艺如下:213g/LCrCl3・6H2O,26g/LNH4Cl,400g/LDMF,2g/LH3BO3,36g/LNaCl,0.01g/L表面活性剂,1~2mL/L湿润剂,pH值1.1~1.3,温度20~30℃,Jc为10~15A/dm2.在此基础上,选择合适的添加剂,可获得厚度达80μm的良好镀铬层。1.1.3 次磷酸盐工艺如下:0.2mol/LCrCl3・6H2O,3.0mol/LNH4Cl,2.0mol/LNaH2PO2・2H2O,0.2mol/
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