日期:2012-04-06 17:23
间较晚，现有体系如下：25~50g/L硫酸铬，100~150g/L硫酸钠，50~60g/L硼酸，20~25g/L配位剂，20~25mL/L稳定剂，5~10mL/L光亮剂；Jc为15~45A/dm2,温度25~45℃，pH值2~3.因为工艺中的配位剂是双羧酸配位剂，电镀过程中阳极只析氧，清洁、无污染，光亮区电流密度宽，pH值能长期保持稳定，操作简单，寿命长，成本低。1.2.2 硫酸盐-甲酸-尿素镀液已经商业化的硫酸盐体系三价铬电镀工艺多在40~50℃施镀，沉积速率较慢。现已新开发出一种常温高效硫酸盐三价铬电镀工艺：120.0g/L硫酸铬，60.0g/L甲酸铬，15.0g/L草酸铬，20.0g/L尿素，10.0g/L抗坏血