美国野马真空系统Orion Comp系列卷绕镀膜设备
积区域差异提供2来源/区
　　●X沉积区为正面涂层总计高达X源位置
　　●X沉积区为背面涂层总计高达X源位置
　　沉积选项
　　●可旋转的或平面磁控管溅射阴极
　　●标准功率配置- RF、脉冲直流,直流、交流和HIPIMS
　　●每个沉积位置也可以配置为下面的沉积来源
　　●PECVD方法,离子源,XXXXX
　　设施需求
　　●近似系统尺寸,长度,宽度和间隙区域
　　●专用冷冻水系统
　　●电力需求依赖于源配置
　　●多个专用的地面接地连接\
　　●洁净室的兼容性
　　●网络连接或专用电话线路

09/29 02:16