独关闭阴极靶位可供各种溅射、蒸发 PACVD沉积源包括:
1、专利的高功率密度(高达30 w/平方厘米)、不平衡或平衡磁控管为直流、脉冲直流、交流、射频和HIPIMS溅射操作。
2、矩形和圆形80 - 200 a引导电弧蒸发阴极。
3、热丝、脉冲直流、交流和射频PACVD。
4、热、电子束蒸发。
5、直流、脉冲直流、交流或射频衬底偏置电压为定制离子辅助增长递送。
●标准矩形阴极尺寸的6 x 30英寸和6 x 54英寸(其他请求)。
●PLC / Windows PC控制与综合颜色触摸屏。多个用户选定的配方可以从人机界面,几乎无限的配方存储