日期:2011-11-23 09:36
相沉积
第三节 电镀
第四节 化学镀
第五节 阳极反应沉积
第六节 LB技术
参考文献
第三章 薄膜制备的物理方法
第一节 真空蒸发
一、真空蒸发沉积的物理原理
二、真空蒸发技术
一、溅射的基本原理
二、溅射镀膜的特点
三、溅射参数
四、溅射装置
第三节 离子束和离子助
一、离子镀
二、阴极电弧等离子体沉积
三、热空阴极枪蒸发
四、离子轰击共沉积
五、非平衡磁控离子助沉积
六、离子束沉积
第四节 外延生长
一、分子束外延(MBE)
二、液相外延生长(LPE)
三、热壁外延生长(HWE)
四、有机金属化学气相沉积(MOCVD)