CR-2000硬铬电镀工艺
日期:2018-05-07 10:32
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详细介绍

CR-2000硬铬电镀工艺是高新技术和创造思维的结晶,完全不同与常规镀铬和普通混合型催化剂镀铬工艺,其工艺操作简单,补给水单一添加,镀液维护方便。
一、工艺特点:
1.阴极电流效率高,可达23-25%
2.沉积速度快,是一般普通电镀铬的2-3倍
3.无阴极低电流区腐蚀
4.镀层平滑,结晶细致光亮
5.高镀层硬度,可达HV900-1150
6.微裂纹可达400-600条/厘米
7.镀层厚度均匀,无高电流区沉积过厚
8.可使用高电流密度,可达90安培/平方分米
9.镀液维护简单,操作容易
10.无阳极腐蚀,不需采用特殊阳极
11.无固体添加之铭尘和溅水现象

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