日期:2012-01-12 11:55
硬盘与碟片电镀：化学镀镍磷
硬盘化学镀镍磷是在经过精细表面加工的镁铝合金表面镀上l2．5μm的镍磷合金，为以后的表面真空镀磁记录膜层作基底。化学镀镍磷的含磷量约为12％，要求镀层应力低且为压应力。镀层必须光洁无任何缺陷，这样才能保证在工作时的高速运转的性能。(1)工艺流程除油一水洗一水洗一有机酸蚀一水洗一水洗一一次浸锌一退锌一二次浸锌一水洗一预镀活化镍一水冼一去离子热水洗(制件预热70～80℃，lmin)一化学镀镍一水洗一干燥。(2)工艺配方①除油碳酸钠20g／L温度70～80℃磷酸钠20g／L时间l～3min②酸蚀硫酸l00g／L温度室