日期:2012-04-13 10:06
35]IKONOPISOV S．Theory of electrical breakdown during formation of barrier anodic films[J]．Electrochimica Acta，1977，22(10)：1077―1082．[36]ALBELLA J M，MONTERO l，MARTINEZ・DUART J M．Electron injection and avalanche during the anodic oxidation of tantalum[J] Journal ofthe Electrochemical Society，1984，131(5)：1 101・1 104．[37]席晓光．微弧氧化技术述评[J]．表面技术，2007，36(4)：66―68，75．[38]王玉林，沈德久．微弧陶瓷化在耐磨耐热件上的应用[J]．轻合金加工技术，2005，33(6)：29．3 1[编辑：吴