日期:2012-04-16 10:27
的长程有序性，从而形成了一种长程无序短程有序的非晶结构[5]。图3不同电流密度下镀层的XRD谱镀层中W含量对镀层的性能有很大影响。图4为不同电流密度下镀层中的W含量。可见，镀层中的W含量随电流密度的变化差异不大，处于57%～61%内。图4不同电流密度下镀层中的W含量2.3电流密度对镀层厚度及电流效率的影响不同电流密度下镀层的厚度见图5。从图5可以看出，电流密度在5～35 A/dm2时，镀层厚度从10μm增加到100μn。图5不同电流密度下的镀层厚度图6不同电流密度下的阴极电流效率可见：电流密度为10，15，20 A/dm2时，电流效率较葛（37%左右）