电沉积Zn0薄膜超声处理后结构和缺陷的研究
日期:2012-04-17 09:58
径小,更容易形成锌填隙原子( Zni),因此,认为薄膜A和B中均可能存在Zni,导致薄膜中施主缺陷(氧空位VO、Zni)占主要优势[8]。进而推断出,位于580 nm的黄光发射是由VO和Zni复合引起的。
为了进一步证实对黄光发射的推断,根据Xu PS等[7]利用全势能线性多重轨道( FP-LMTO)方法计算的Zn0中5种本征缺陷和复合缺陷:氧空位(Vo)、锌空位(Vzn)、氧填隙(Oi)、锌填隙(Zni)和氧错位(Ozn)及VO和Zni的复合缺陷(VoZni)的能级[8],画出了Zn0的能级图,如图3所示。样品A和B发光谱中出现的位于580 nm的黄光发射峰位与图3给出的VO和Zni复合缺陷能级到价
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