弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
PVD镀膜能够镀出如下的膜层种类
PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。
PVD镀膜膜层的厚度
PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1m～5m，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1m~1m，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情