日期:2012-04-17 09:58
同列于表2）。公式（2）的换算结果表明，产品2~4的平均K值与产品1的平均K值相对偏差均在三个百分点以内，处于测量误差和公式计算精度范围，因此可以认为四种工艺条件可获得基本相同的比表面积。图2也显示出4种条件所得泡沫镍丝体具有相同的表面形貌，均为棋布的大晶粒组合。电镀后的镍层是不规则的细晶组织（图1a），表面晶粒突起，整体粗糙（图1b）。由于加热时间短，空气烧解后仍为细晶结构（图1c），但表面形成由NiO微小晶粒构成的氧化膜（图1d），使表层显得更为粗糙，这是由于金属不足的P型半导体NiO向外生长机制所造成的。原电镀层中